撮像ミラー、その製造方法およびレーザ撮像システムにおけるその使用

专利摘要:
本発明の主題は、反射面（１）を有する反射デバイス（Ｍ１）を含む光学撮像用のミラーである。この反射デバイスには光放射デバイス（２）が組み込まれており、この光放射デバイス（２）の一方の放射端は、前記反射面の非反射または弱反射領域（ｚ１）に位置している。 用途：レーザ撮像システム
公开号:JP2011507045A
申请号:JP2010538555
申请日:2008-12-05
公开日:2011-03-03
发明作者:ザヴィエール ドワトー、フランソワ；ポショル、ジャン−ポール
申请人:テールズ；
IPC主号:G02B5-08

专利说明:

[0001] 本発明は、光学撮像ミラー、その製造方法およびレーザ撮像システムに対するその応用に関する。]
背景技術

[0002] レーザ光ビームによって標的物体を処理するシステムにおいては、レーザビームを正確に導くことが必要である。従って、処理ビームの標的物体上への照射点を正確に知る必要性が生じる。]
[0003] このために、標的物体と標的物体上における処理ビームの照射点との像の形成を可能にする撮像システムを用いることが実際に知られている。このシステムは、得られた像に応じて、処理ビームの方位を修正することができる。]
[0004] この撮像を実行するために、既知のシステムにおいては、通常、処理ビームを標的物体に向けて伝送することを可能にするビームセパレータであって、標的物体から反射された光を受け取り、この光を画像形成装置に反射するビームセパレータが用いられる。]
[0005] このようなシステムの欠点は、セパレータが処理ビームの径路に損失をもたらす点、あるいは、加えられる照明に耐え得ない点にある。]
発明が解決しようとする課題

[0006] 本発明は、この欠点の解決を可能にする。]
[0007] 本発明の主題は、処理ビームの伝送用および撮像用として同じ光学系の使用を可能にする反射システムであり、別の主題は、このような反射システムの製造方法である。本発明は、また、本発明による光学反射システムを応用した光学撮像構成にも関する。]
課題を解決するための手段

[0008] 従って、本発明の主題は光学撮像用のミラーである。このミラーは、反射面を有する反射デバイスを含む。この反射デバイスには光放射デバイスが組み込まれており、この光放射デバイスの一方の放射端は、前記反射面の非反射または弱反射領域に位置している。]
[0009] 本発明の１つの有利な実施態様によれば、放射デバイスが、放射光ファイバまたは複数の放射光ファイバのアセンブリであり、その一方の端部は、前記反射面と同一平面に位置している。この端部の表面は、前記の非反射または弱反射領域を構成する。反射面およびこの端部の表面は１つの同じ平面内にあり、放射光ファイバの軸または複数の放射光ファイバのアセンブリの軸に対して傾斜している。]
[0010] 本発明の１つの実施態様によれば、この反射デバイスはガラスベースの材料または合成材料から製作される。]
[0011] 本発明によるミラーの１つの変形実施態様によれば、この反射デバイスが、放射光ファイバ（または複数の放射光ファイバの前記アセンブリ）の回りに緊密に集積された光ファイバのアセンブリを含む。]
[0012] １つの変形実施態様によれば、この反射デバイスは、体積回折格子で被膜処理された面を含み、この被膜処理面は、前記領域に光放射デバイスの放射端が通る孔を有する。]
[0013] 本発明は、また、上記の本発明によるミラーの製造方法に関する。この方法は、次のステップ、すなわち、
—放射光ファイバまたは複数の放射光ファイバのアセンブリを前記反射デバイスの中に組み込むステップと、
—放射光ファイバ（または複数の放射光ファイバのアセンブリ）に対して横方向の面を得るために、前記反射デバイスを機械加工するステップと、
—前記反射面を生成するために、前記横方向の面を反射処理するステップと、
—前記放射光ファイバ（または放射光ファイバのアセンブリ）の放射領域に合致する反射面の領域において前記反射処理を毀損するために、前記放射光ファイバ（または放射光ファイバのアセンブリ）によってエネルギー光ビームを伝送するステップと、
を含む。]
[0014] 本発明による方法の１つの実施態様によれば、前記放射光ファイバ（または放射光ファイバのアセンブリ）を前記反射デバイスの中に組み込むステップを成形法によって実施する。]
[0015] 本発明による方法の１つの変形実施態様によれば、前記反射デバイスの中に組み込むステップを、前記放射光ファイバ（または放射光ファイバのアセンブリ）をファイバのアセンブリの内部に組み込み、続いてそのファイバを一緒に固定することによって行う。]
[0016] 本発明のさらに別の主題は、上記のミラーまたはその製造方法を適用した光学撮像システムである。]
[0017] この撮像システムにおいては、前記放射光ファイバ（または放射光ファイバのアセンブリ）が、処理光ビームを標的物体の第１領域に放射するように設計される。この撮像システムは、
—撮像光ビームを放射する撮像光源であって、この撮像光ビームは、前記標的物体を、前記第１領域より大きい表面積を有すると共にこの第１領域を包含する第２領域において照明するように設計される撮像光源と、
—第１ミラーを形成する前記反射面の方向に向けられるカメラであって、前記標的物体によってこの第１ミラーに反射される光を受け取るように設計されるカメラと、
を含む。]
[0018] 本発明の１つの変形態様によれば、前記光学撮像システムが、放射光ファイバと前記第１ミラーとの間に位置する光学アセンブリをも含む。この光学アセンブリの目的は、ミラー上に焦点合わせして、前記第１ミラーの放射光源の分割を可能にする機能を遂行することにある。]
[0019] 本発明の１つの変形態様によれば、この光学アセンブリが２つの可変拡大レンズを有する。]
[0020] １つの変形実施態様によれば、この撮像システムは、また、
—前記処理ビームを受け取ると共に、第１領域を照明する目的でそれを反射する少なくとも１つの第２ミラーであって、前記照明ビームを標的物体の前記第１領域の方向に向けることを可能にする第２ミラーと、
—前記第２ミラーの方位を前記カメラが受け取る画像の関数として制御することを可能にする制御システムと、
を含んでもよい。]
[0021] また別の変形実施態様によれば、この撮像システムは第３ミラーを含むことができる。この第３ミラーは、第２ミラーから受け取る光を前記標的物体に反射するように、あるいは、逆に標的物体から受け取る光を第２ミラーに反射するように設計される。この場合、前記制御システムが、前記第２ミラーから受け取るビームの焦点の調節を可能にするために、この第３ミラーの方位を、前記カメラが受け取る画像の関数として制御することを可能にする。]
[0022] さらに別の変形実施態様によれば、この撮像システムは第４ミラーを含むことができる。この第４ミラーは、第１ミラーから光を受け取り、それをカメラに反射する。]
[0023] 本発明によるこの撮像システムの１つの実施態様によれば、前記処理光ビームは第１波長または波長域にあり、前記撮像光ビームは、第１波長または波長域とは異なる第２波長または波長域にある。この場合、この撮像システムは、さらに、第１ミラーおよびカメラの間に位置するスペクトルフィルタであって、第２波長または波長域のみをカメラへ伝送することを可能にするスペクトルフィルタを含む。]
[0024] 本発明のさらに別の主題は、以上述べた撮像システムを適用する複数光源の制御システムである。このシステムは少なくとも２つのレーザ源を含む。各レーザ源は独立の指向システムを含む。この制御システムは、また、各レーザ源の指向システムの制御を可能にする中央制御回路をも含む。]
[0025] 本発明のさまざまな主題および特徴が添付の図面に基づく以下の説明においてさらに明確になるであろう。]
図面の簡単な説明

[0026] 本発明による光学撮像用ミラーの実施例を示す。
図１のミラーの本発明による製造方法の１つの例を示す。
図２ａの方法に関する別の説明図である。
本発明による製造方法の１つの変形実施態様を示す。
図３ａの方法に関する別の説明図である。
本発明による光学撮像用ミラーの変形実施態様を示す。
本発明によるミラーの例であって、放射光ファイバの端部を金属堆積によるあらゆる汚染に対して保護することを可能にする光学アセンブリに関連する例を示す。
本発明によるミラーを適用する光学的指向システムを示す。
本発明のシステムの複数の光源の制御への応用を示す。] 図１ 図２ａ 図３ａ
実施例

[0027] まず最初に、図１を参照して、本発明による光学撮像用ミラーの実施例について説明する。] 図１
[0028] ミラーＭ１は反射表面１を有するユニットである。表面１には、反射しないかまたは全表面１に比べて反射が弱い領域ｚ１が設けられる。この状況において、光源は光ビームをこの領域ｚ１を通して放射することができる。他方、ミラーＭ１上への入射光は、反射表面１によって反射されるが、領域ｚ１によっては反射されない。]
[0029] 図１は、また、ミラーＭ１の単純化した操作モードも表現している。] 図１
[0030] １つの例として、光ファイバ２がミラーＭ１を通っており、それは、領域ｚ１に位置する放射端を有する。]
[0031] 図１の実施例によれば、光ファイバ２は、標的物体Ｃ１の局所領域に向かうビームＦＳ１を放射する。] 図１
[0032] 標的物体Ｃ１は、さらに、撮像光ビームＦＥ１によって照明される。それに対して、標的物体Ｃ１はビームＦＲ１を反射する。このビームＦＲ１は、ミラーＭ１の表面１によって、ビームＦＲ２としてカメラ３の方向に反射される。従って、表示される画像４は標的物体の像である。さらに、領域ｚ１においてミラーに達するビームＦＲ１の部分は、ミラーＭ１によって反射されない（または実際上反射されない）。従って、標的物体の像４には低光度の領域５が生じる。この領域はビームＦＳ１の標的物体上への照射点に対応する。]
[0033] 従って、図１の撮像システムによって、光ファイバ２が放射するビームＦＳ１の標的物体Ｃ１上の照射領域を観察することが可能になる。従って、操作者または画像処理システムは、カメラによって得られる像４を観察すれば、ビームＦＳ１の方位および／または焦点を修正することによって、標的物体上における照射領域を修正できる。] 図１
[0034] 図２ａおよび２ｂは図１のミラーＭ１の製造方法の例を示す。] 図１ 図２ａ
[0035] 第１ステップとして、光ファイバ２をブロックＢ１に浸漬する。有利な点であるが、このブロックは、ガラス（または材料の熱的特性の点でサファイア／窒化物）または合成樹脂から製作することができる。]
[0036] 第２ステップにおいて、ブロックを機械加工して、ファイバの軸に対して傾斜した面１を生成する。従って、ファイバの一方の端部は、面１の表面と同一平面上にある。面１およびファイバ２の軸は４５°の角度をなすのが有利である。]
[0037] 第３ステップにおいて、面１に反射処理を行う。例えば、面１を金属化層で被膜処理する。]
[0038] 第４ステップにおいて、非反射または反射が弱い領域ｚ１を、光ファイバ２の同一平面の端部の位置に生成する。有利なことに、この領域ｚ１は、光ファイバを通して十分なエネルギーの光ビームを伝送して、この領域ｚ１における面１の反射処理を破壊することによって作り出すことができる。]
[0039] 図３ａおよび３ｂは、本発明によるミラーの製造方法の１つの変形態様を示す。] 図３ａ
[0040] 第１ステップにおいて、ファイバ２をファイバ６．１〜６．ｎのアセンブリの内部に配置して、そのアセンブリを一緒に固定する。例えば、個々別々のファイバを一緒に接着するか、あるいは焼きなまし処理する。]
[0041] 第２ステップにおいて、このファイバのアセンブリを機械加工して、ファイバの軸に対して傾斜した平面を生成する。従って、ファイバの端部、例えばファイバ６．７の端部ｅ６．７はこの平面と同一平面上にある。特に、ファイバ２の一方の端部はこの平面の表面と同一平面上にある。前記のように、この面およびファイバ２の軸は４５°の角度をなすのが有利である（上記と同じ所見）。]
[0042] 第３ステップにおいて、端部ｅ６．７のようなファイバの端部に反射処理を実施する。例えば、ファイバの端部を金属化層で被膜処理する。]
[0043] 第４ステップにおいて、前記の領域ｚ１に相当するファイバ２の端部を、非反射部分かまたは反射が弱い部分にする。例えば、この端部が先行のステップにおいて他のファイバ端部と同様に反射処理されていると、ファイバ２から十分なエネルギーの光ビームを伝送してこの端部の反射処理を破壊する。]
[0044] 第１ステップ（ファイバのアセンブリ化）においては、光ファイバを樹脂の中に浸漬して、そのファイバを一緒に固定するのが有利である。すなわち、光ファイバの間の空間は樹脂で充満される。その場合、図３ｂのデバイスの傾斜面は、全体が反射面とされた（但し領域ｚ１は除く）均質な面である。] 図３ｂ
[0045] 上記の実施例は、１本の光ファイバ２によるものとして説明したが、本発明は、単一の光ファイバ２の代わりに複数の光ファイバを順に並べたアセンブリを用いるシステムの製造にも適用可能である。この場合、領域ｚ１は、これらのファイバの放射端の全部に相当する。]
[0046] 図４は、本発明による光学撮像用ミラーの変形実施態様を示す。これは、支持ストリップ材Ｓ１を含んでおり、このストリップ材Ｓ１の片面は、体積回折格子が配列された（ブラッグ［Ｂｒａｇｇ］格子）ポリマー層で被膜処理されている。また、１つの孔Ｔ１が支持ストリップ材および回折格子を貫通しており、ファイバ（またはファイバのアセンブリ）を挿入し得るようになっている。その放射端から、光が領域ｚ１を通して放射される。] 図４
[0047] 図５は、ミラーの上流側に光学アセンブリが組み込まれる本発明の変形態様を示す。この光学アセンブリは、反射表面に開口ｚ１を生成する際に光ファイバの放射面を防護するためのものである。この光学アセンブリは、典型的な形態として、放射ファイバＳ１およびミラーＭ１の間に位置するレンズＯ１およびＯ２から構成される。ある距離において形成される光学機能の幾何学的間隔によって、ファイバの出力面の汚染が防止される。従って、このことから、レーザ光束に曝される金属膜の部分を切除または熱で除去することによって、１次レーザ源の出力面の光学特性を変更または毀損することなく、自己芯出しされた開口、つまり、ソース点の像が生成される。] 図５
[0048] ここで、図６を参照して、本発明によるミラーを適用した指向システムであって光源の好適な方位付けを可能にする指向システムを説明する。] 図６
[0049] 光源Ｓ１は、第１ミラーＭ１を通して光ビームＦＳ１を放射する。このミラーは、図１を参照して上述したのと同様のものである。従って、ミラーを通り抜けるこの光ビームの放射領域ｚ１は、非反射または反射が弱い領域である。] 図１
[0050] ビームを方位付けるように構成される第２ミラーＭ２が、ビームを第３ミラーＭ３に向けて反射する。この第３ミラーＭ３は、ビームを、標的物体Ｃ１の被処理領域Ｚ１の上に焦点合わせすることができる。]
[0051] 指向調整光源Ｅ１が、表面照明領域Ｚ２において標的物体Ｃ１を照明する光ビームＦＥ１を放射する。この領域Ｚ２は、領域Ｚ１の表面積より著しく大きな表面積を有し、領域Ｚ１を包含している。]
[0052] ビームＦＥ１の光の少なくとも一部分は、標的物体によってミラーＭ３の方向に反射され、ミラーＭ３はそれをミラーＭ２に向けて反射する。この光は、続いてミラーＭ１によって反射され、さらに、ミラーＭ４によってカメラＣＡに向けて反射される。]
[0053] しかし、前記のように、ビームＦＳ１が放射されるミラーＭ１の領域ｚ１は弱反射領域である。従って、カメラＣＡが受け取る標的物体の像においては、ビームＦＳ２によって照明される領域Ｚ１の像が、低光度に見えるかあるいは標的物体の像の残りの部分とは異なる色調になっている。このため、カメラが得る像によって、ビームＦＳ２によって照明される領域Ｚ１の位置を特定することが可能になる。]
[0054] この像は、照明された領域Ｚ１の寸法と、標的物体上のその位置とを特定する処理回路ＣＴに伝送される。処理回路ＣＴは、続いて、リンクｃｔ１を介してミラーＭ２の方位を制御し、ビームＦＳ２の方向を修正できる。処理回路ＣＴは、さらに、リンクｃｔ２を介してミラーＭ３を制御し、焦点を調整することができる。]
[0055] 光源Ｓ１およびＥ１が放射する波長が異なっている点が有利である。注目すべきは、光源Ｅ１が放射する波長は光源Ｓ１の波長範囲に含まれないという点である。このため、本発明はスペクトルフィルタＦ１を設けており、このフィルタＦ１は、光源Ｅ１が放射する波長（または波長範囲）をカメラに導くことを可能にする。これによって、標的物体が反射するビームＦＳ２の波長が戻されるリスクが低減され、カメラが捕捉する像が損なわれないようになる。]
[0056] 例えば、光源Ｅ１の放射波長を１．５マイクロメートルとし、光源Ｓ１は約１．０８マイクロメートルの波長を放射することができる。]
[0057] 本発明は、ファイバ２（またはファイバのアセンブリ）から放射されるビームＦＳ１が、離れた標的物体（図１）上に処理遂行の対象を有するようなレーザビームによる処理システムに有利に適用できる。] 図１
[0058] また、本発明は、方位および焦点を互いに独立に制御し得る複数のレーザ源を用いるシステムにも適用可能である。例えば、レーザ源が場所的に異なる位置に配置されるシステムにも適用可能である。]
[0059] 図７は、本発明のシステムが適用される光源の配置を示す。各光源Ｓ１、Ｓ２・・・、ＳＮは、光ファイバと少なくとも１つの焦点合わせレンズとを備えたレーザ源を含む。] 図７
[0060] 中央制御回路ＣＣは、これらの光源から放射される個々別々のビームが標的物体Ｃ１の１つの同じ被処理領域に実質的に向けられるように、各光源の予備方位調整と、予備焦点合わせとの制御を可能にする。この予備指向操作は、１〜３°の視野をカバーするＩＲ撮像システムであって５００マイクロラジアン程度の精度を３σの標準偏差で有するＩＲ撮像システムによって供給されるデータに基づいて実行される。]
[0061] 本発明によれば、図７のＳ１〜ＳＮのような各光源も、図５を参照して説明したような指向システムを有する。この場合、図６の中央制御回路ＣＣは、個々別々の光源Ｓ１〜ＳＮを方位付けする第１ステップの実施を可能にする。続いて、処理回路ＣＴが個々別々の光源Ｓ１〜ＳＮから放射されるビームのより正確な方位付けを制御する。] 図５ 図６ 図７
[0062] 従って、この構成によれば、個々別々の光源を標的物体に対して任意の空間位置に配置できる。]
[0063] 各光源を個々の場合に適合させることが有利である。従って、このタイプの構成の場合は最適のモジュラー設計が可能になる。]
[0064] 本発明は、１つの変形実施態様によれば、レーザ源に、図５のような指向システムを装備する方式も想定している。これによって、個々別々の光ビームを標的物体Ｃ１の領域Ｚ１に向けて導くことができる。] 図５
[0065] これらの指向システムは中央制御回路ＣＣと相互作用することが有利である。]
[0066] これらの径路のそれぞれに、近接した波長、例えば１．５マイクロメートルのアクティブな撮像センサが取り付けられると、焦点および微妙な指向をリアルタイムで調整することが可能になり、これによって、標的物体へのエネルギーの集中を最適化するために、閉ループ制御と大気外乱の影響の補正との問題を同時に処理できる。]

权利要求:

請求項1
反射面（１）を有する反射デバイス（Ｍ１）であって、光放射デバイス（２）が組み込まれ、その光放射デバイス（２）の一方の放射端が前記反射面の非反射または弱反射領域（ｚ１）に位置している反射デバイス（Ｍ１）を含む、ことを特徴とする光学撮像用ミラー。
請求項2
前記放射デバイス（２）が１本の放射光ファイバまたは複数の放射光ファイバのアセンブリであって、その放射光ファイバまたは放射光ファイバのアセンブリの一方の端部は前記反射面（１）と同一平面上にあり、その端部の表面は前記非反射または弱反射領域（ｚ１）を構成し、前記反射面および前記端部の表面は、１つの同じ平面内にあると共に、前記放射光ファイバの軸または前記複数の放射光ファイバのアセンブリの軸に対して傾斜している、ことを特徴とする請求項１に記載の光学撮像用ミラー。
請求項3
前記反射デバイス（Ｂ１）がガラスベースの材料または合成材料から製作される、ことを特徴とする請求項２に記載の光学撮像用ミラー。
請求項4
前記反射デバイスが、放射光ファイバ（または前記複数の放射光ファイバのアセンブリ）の回りに緊密に集積された光ファイバ（６．１〜６．ｎ）のアセンブリを含む、ことを特徴とする請求項３に記載の光学撮像用ミラー。
請求項5
前記反射デバイスが、体積回折格子で被膜処理された面を含み、この被膜処理面は、前記領域（ｚ１）において前記光放射デバイス（２）の放射端が通る孔を有し、前記体積格子は、放射ビームを撮像システムの方に偏向させるために放射ビームに垂直に配置され、その放射ビームは標的物体を照射するのにレーザの擬単色特性を用いる、ことを特徴とする請求項１に記載の光学撮像用ミラー。
請求項6
請求項２〜４のいずれか１項に記載のミラーの製造方法において、次のステップ、すなわち、—前記放射光ファイバまたは前記複数の放射光ファイバのアセンブリを前記反射デバイス（Ｂ１、６．１〜６．ｎ）の中に組み込むステップと、—前記放射光ファイバ（または前記複数の放射光ファイバのアセンブリ）に対して横方向の面を得るために、前記反射デバイスを機械加工するステップと、—前記反射面を生成するために、前記横方向の面を反射処理するステップと、—前記放射光ファイバ（または前記放射光ファイバのアセンブリ）の放射領域に合致する前記反射面の領域（ｚ１）において前記反射処理を毀損するために、前記放射光ファイバ（または前記放射光ファイバのアセンブリ）からエネルギー光ビームを伝送するステップと、を含む、ことを特徴とする方法。
請求項7
前記放射光ファイバ（または前記放射光ファイバのアセンブリ）を前記反射デバイスの中に組み込むステップを成形法によって実施する、ことを特徴とする請求項５に記載の方法。
請求項8
前記反射デバイスの中に組み込むステップを、前記放射光ファイバ（または前記放射光ファイバのアセンブリ）をファイバのアセンブリの内部に組み込み、続いてそのファイバを一緒に固定することによって行う、ことを特徴とする請求項５に記載の方法。
請求項9
請求項１〜５のいずれか１項に記載のミラー、あるいは、請求項６〜８のいずれか１項に記載の方法を適用するレーザ撮像システムにおいて、前記放射光ファイバ（または前記放射光ファイバのアセンブリ）が、処理光ビーム（ＦＳ１）を標的物体（Ｃ１）の第１領域（Ｚ１）に放射するように設計されること、および、このレーザ撮像システムが、—撮像光ビーム（ＦＥ１）を放射する撮像光源（Ｅ１）であって、この撮像光ビーム（Ｅ１）は、前記標的物体を、前記第１領域（Ｚ１）より大きい表面積を有すると共にこの第１領域を包含する第２領域（Ｚ２）において照明するように設計される撮像光源（Ｅ１）と、—第１ミラー（Ｍ１）を形成する前記反射面の方向に向けられるカメラ（ＣＡ）であって、前記標的物体によってこの第１ミラー（Ｍ１）に反射される光を受け取るように設計されるカメラ（ＣＡ）と、を含むこと、を特徴とするレーザ撮像システム。
請求項10
前記放射光ファイバと、請求項１〜５のいずれか１項に記載のミラーとの間に位置する撮像光学アセンブリであって、瞳、すなわちソース点の像で自己芯出しされたものを形成すると共に、一方では、金属膜の局所蒸発による使用方法の汚染堆積特性に対して前記ファイバの出力面を保護する撮像光学アセンブリを含む、ことを特徴とする請求項９に記載のレーザ撮像システム。
請求項11
前記撮像光学アセンブリが、意図する用途に応じてビームを拡大する機能の遂行を可能にする１つまたは複数のレンズを含む、ことを特徴とする請求項１０に記載のレーザ撮像システム。
請求項12
—前記処理ビームを受け取ると共に、前記第１領域（Ｚ１）を照明する目的でそれを反射する少なくとも１つの第２ミラー（Ｍ２）であって、前記照明ビームを標的物体の前記第１領域の方向に向けることを可能にする第２ミラー（Ｍ２）と、—前記第２ミラーの方位を前記カメラ（ＣＡ）が受け取る画像の関数として制御することを可能にする制御システムと、をさらに含む、ことを特徴とする請求項９〜１１のいずれか１項に記載のレーザ撮像システム。
請求項13
前記レーザ撮像システムが第３ミラー（Ｍ３）を含み、この第３ミラー（Ｍ３）は、前記第２ミラー（Ｍ２）から受け取る光を前記標的物体（Ｃ１）に反射するように、あるいは、逆に前記標的物体から受け取る光を前記第２ミラーに反射するように設計され、この場合、前記制御システムが、前記第２ミラー（Ｍ２）から受け取るビームの焦点の調節を可能にするために、この第３ミラーの方位を、前記カメラ（ＣＡ）が受け取る画像の関数として制御することを可能にする、ことを特徴とする請求項１２に記載のレーザ撮像システム。
請求項14
前記レーザ撮像システムが第４ミラー（Ｍ４）を含み、この第４ミラー（Ｍ４）は、前記第１ミラーから光を受け取り、それを前記カメラ（ＣＡ）に反射する、ことを特徴とする請求項１３に記載のレーザ撮像システム。
請求項15
前記処理光ビーム（ＦＳ１）が第１波長または波長域にあり、前記撮像光ビーム（ＦＥ１）は、前記第１波長または波長域とは異なる第２波長または波長域にあり、前記レーザ撮像システムは、さらに、前記第１ミラー（Ｍ１）および前記カメラ（ＣＡ）の間に位置するスペクトルフィルタ（Ｆ１）であって、前記第２波長または波長域のみを前記カメラへ伝送することを可能にするスペクトルフィルタ（Ｆ１）を含む、ことを特徴とする請求項９〜１４のいずれか１項に記載のレーザ撮像システム。
請求項16
請求項９〜１５のいずれか１項に記載の撮像システムを応用する複数の光源を制御するシステムにおいて、この制御システムが少なくとも２つのレーザ源（Ｓ１〜ＳＮ）を含むこと、および、各レーザ源は独立の指向システムを含み、この制御システムは、さらに、各レーザ源の前記指向システムの制御を可能にする中央制御回路（ＣＣ）を含むこと、を特徴とするシステム。